什么是真空鍍膜?都有哪些鍍膜工藝?

2024-08-16 派大莘

我們都知道,濾光片是一種能夠選擇性透過或吸收特定波長(zhǎng)光線的器件,在濾光片的制備中,經(jīng)常會(huì)聽到真空鍍膜的字眼,那么什么是真空鍍膜呢?下面我們將為大家做一個(gè)簡(jiǎn)單的理解,同時(shí)介紹幾個(gè)濾光片薄膜制備的幾個(gè)工藝!

 什么是真空鍍膜?都有哪些鍍膜工藝?

真空鍍膜是制備濾光片最常用的方法之一,其原理是將待鍍基片(如玻璃、石英等)置于真空腔內(nèi),通過加熱、電子束或離子轟擊等物理或化學(xué)方式使鍍膜材料蒸發(fā)或?yàn)R射,并在基片表面沉積成薄膜,通過沉積多層不同折射率的薄膜,可以精確控制濾光片的透射和反射特性,形成具有特定光學(xué)性能的薄膜。鍍膜工藝的目的是改變?yōu)V光片對(duì)不同波長(zhǎng)光的透過、反射和吸收特性,從而實(shí)現(xiàn)濾光的功能。


 真空鍍膜機(jī)


膜層材料和光學(xué)性能

常用的濾光片膜層材料有:

高折射率材料: 二氧化硅、氧化鈦、氧化鋯等,具有較高的折射率,用于構(gòu)建高反射膜。

低折射率材料: 氟化鎂、氟化鈣等,具有較低的折射率,用于構(gòu)建增透膜。

金屬材料: 鋁、銀、金等,具有高反射率,常用于制作反射鏡。

不同材料的光學(xué)性能(折射率、吸收系數(shù)等)決定了膜系的特性。例如,高折射率材料和低折射率材料交替疊加可以形成多層膜,實(shí)現(xiàn)高反射率或高透射率。

 

真空鍍膜的優(yōu)勢(shì)

防止污染: 真空環(huán)境可以有效減少空氣中的雜質(zhì)對(duì)膜層的污染,保證膜層的純度和質(zhì)量。

提高沉積速率: 真空環(huán)境下,蒸發(fā)或?yàn)R射的原子或分子可以自由地向各個(gè)方向運(yùn)動(dòng),從而提高沉積速率。

改善膜層質(zhì)量: 真空環(huán)境下,膜層生長(zhǎng)更加均勻,致密,附著力更好。

 電子束蒸發(fā)鍍膜

電子束蒸發(fā)鍍膜

常見的真空鍍膜工藝有哪些?

常見的真空鍍膜工藝包括電子束蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子輔助鍍膜等,同時(shí)還包括一些真空鍍膜其他變種如磁控濺射、反應(yīng)濺射、離子束輔助沉積(IBAD)等!

 蒸發(fā)鍍膜

1.電子束蒸發(fā)鍍膜:利用電子束加熱蒸發(fā)源,使鍍膜材料氣化并沉積在濾光片基底上。這種方法能夠精確控制蒸發(fā)速率和膜厚,使其具有高蒸發(fā)速率、可蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料等優(yōu)點(diǎn),但對(duì)設(shè)備要求較高。

2.濺射鍍膜:通過高能粒子撞擊靶材,使靶材原子濺射出來并沉積在基底上。濺射鍍膜可以制備出均勻性較好、附著力強(qiáng)的膜層,鍍出來的膜層均勻性好、附著力強(qiáng),適用于各種材料的鍍膜,但沉積速率相對(duì)較慢。

3.離子輔助鍍膜:在鍍膜過程中引入離子束,對(duì)正在沉積的膜層進(jìn)行轟擊和改性,從而改善膜層的結(jié)構(gòu)和性能,如提高膜層的致密性和硬度,但工藝相對(duì)復(fù)雜。

化學(xué)氣相沉積CVD

化學(xué)氣相沉積CVD)

4.化學(xué)氣相沉積(CVD):在高真空或低壓環(huán)境下,將含有鍍膜元素的氣態(tài)化合物引入反應(yīng)腔,在基片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成薄膜,適用于制備高純度、大面積的薄膜,膜層均勻性好。


物理氣相沉積PVD

物理氣相沉積PVD)

5.物理氣相沉積(PVD):將固態(tài)或液態(tài)物質(zhì)在真空或低壓環(huán)境下轉(zhuǎn)化為氣態(tài)原子或分子,然后沉積在基片上形成薄膜,覆蓋真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍等多種方法,可以根據(jù)不同的需求選擇合適的工藝。


原子層沉積ALD

原子層沉積ALD

6.原子層沉積(ALD):由化學(xué)氣相沉積衍生而來,它通過利用不同氣相前驅(qū)體脈沖交替通入反應(yīng)腔室, 周期性間歇式地在表面沉積材料,通過交替引入兩種或多種反應(yīng)前驅(qū)體,在基片表面逐層生長(zhǎng)薄膜,可以精確控制膜厚,制備出具有原子級(jí)平整度的薄膜,缺點(diǎn)是沉積速率較慢,成本較高。

濺射鍍膜

7.磁控濺射:在真空腔內(nèi),通過施加直流或射頻電壓在靶材和基片之間產(chǎn)生電場(chǎng),使惰性氣體電離形成等離子體。磁場(chǎng)的作用是將電子限制在靶材附近,增加電子與氣體原子的碰撞幾率,從而產(chǎn)生更多的離子。這些離子轟擊靶材,使靶材原子濺射出來,并沉積在基片上形成薄膜,提高濺射速率和膜層均勻性。

8.反應(yīng)濺射:與磁控濺射類似,但增加了反應(yīng)氣體。濺射出來的靶材原子與反應(yīng)氣體原子在基片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成化合物薄膜,如氧化物、氮化物、碳化物等。

9.離子束輔助沉積(IBAD): IBAD是一種綜合了離子束技術(shù)和物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的鍍膜方法,在PVD過程中,同時(shí)引入高能離子束。離子束轟擊基底表面,使其活化,有利于膜層的成核和生長(zhǎng);離子束還對(duì)生長(zhǎng)中的膜層進(jìn)行轟擊,可以改善膜層的致密性、平整度和應(yīng)力,改善膜層的結(jié)構(gòu)和性能。


多層膜沉積作為真空鍍膜的一種常見應(yīng)用,一般為了實(shí)現(xiàn)更復(fù)雜的濾光效果,通常需要沉積多層不同折射率的薄膜。通過精確控制每一層的厚度和折射率,可以實(shí)現(xiàn)特定的光學(xué)透過曲線,設(shè)計(jì)出各種各樣的光學(xué)濾光片,例如帶通濾光片、截止濾光片、中性密度濾光片等。例如,在制備窄帶濾光片時(shí),可能需要沉積數(shù)十層甚至上百層的薄膜,每層的厚度都需要精確控制在納米級(jí)別,這就對(duì)真空鍍膜的工藝精度和穩(wěn)定性提出了極高的要求。


鍍膜效果的評(píng)定

鍍膜效果的好壞可以通過以下指標(biāo)進(jìn)行評(píng)定:

透射率: 測(cè)量濾光片在不同波長(zhǎng)下的透射率,與理論設(shè)計(jì)值進(jìn)行比較。

反射率: 測(cè)量濾光片的反射率,評(píng)估其對(duì)光的反射能力。

波長(zhǎng)選擇性: 測(cè)量濾光片的半峰全寬(FWHM)、峰值透過率等參數(shù),評(píng)價(jià)其波長(zhǎng)選擇性。

角度特性: 測(cè)量濾光片在不同入射角下的透射率和反射率,評(píng)估其角度特性。

耐久性: 評(píng)估濾光片在環(huán)境因素(如溫度、濕度、機(jī)械應(yīng)力)下的穩(wěn)定性。

 

真空鍍膜工藝的影響因素

真空度: 真空度越高,膜層純度越高,附著力越好。

沉積速率: 沉積速率過快或過慢都會(huì)影響膜層的均勻性。

基底溫度: 基底溫度影響膜層的微觀結(jié)構(gòu)和應(yīng)力。

膜層厚度控制: 精確控制膜層厚度是獲得理想光學(xué)性能的關(guān)鍵。

 

總的來說,濾光片的真空鍍膜是一門精密的技術(shù),涉及到材料科學(xué)、光學(xué)、物理等多個(gè)學(xué)科。通過合理選擇膜層材料、優(yōu)化膜系設(shè)計(jì)、控制鍍膜工藝參數(shù),可以制備出具有各種光學(xué)性能的濾光片,滿足不同應(yīng)用的需求,需要注意的是,濾光片的性能不僅取決于鍍膜工藝,還與基底材料、鍍膜設(shè)備、工藝參數(shù)等因素密切相關(guān)。

標(biāo)簽: 真空鍍膜 鍍膜工藝